El gigante asiático avanza a grandes pasos en su objetivo de producir chips avanzados de forma autónoma y reducir al máximo su dependencia de otros agentes clave en la industria de los semiconductores. Recientemente, investigadores chinos han logrado construir un tipo de litografía EUV (Ultravioleta Extrema, en inglés), capaz de operar y competir, a nivel internacional, con otros productos similares como los desarrollados por la neerlandesa ASML. De hecho, este avance lleva la firma de un científico chino que trabajó en la compañía europea.
Lin Nan, antiguo responsable del departamento de tecnología de fuentes de luz, ha liderado el equipo del Instituto de Óptica y Mecánica Fina (Fine Mechanics, en inglés) de la Academia de Ciencias Chinas que ha conseguido desarrollar esta EUV, cuyas máquinas solo son fabricadas, actualmente por ASML. Estas herramientas son necesarias para fabricar chips avanzados de 7 nanómetros, frente a los chips de 65 y 300 nanómetros producidos con máquinas de litografía DUV (Ultravioleta Profunda, en inglés).
De hecho, el pasado 16 de abril, Chrisophe Fouquet, director ejecutivo de ASML, aseguró que, si bien siempre es posible generar luz del tipo EUV, China "tardaría muchos años" en desarrollar una máquina de este tipo. Por lo pronto, los científicos de la Academia de Ciencias Chinas han dado un gran paso bajo la coordinación de Lin, científico que volvió al gigante asiático en 2021, un retorno que se enmarca en el reclutamiento internacional de trabajadores de elevada cualificación ejecutado por Pekín. Este concepto en inglés se conoce como 'brain gain', traducido al castellano como 'retorno de cerebros, que es lo opuesto a la 'fuga de cerebros'.
Por otro lado, este avance científico es importante porque el gobierno neerlandés ha vetado la venta de tecnología punta de ASML a China, una medida que se enmarca en el esfuerzo que los aliados tradicionales de EEUU han hecho para seguir la estrategia de contención de Washington sobre el desarrollo tecnológico de Pekín. Esto es clave, ya que demostraría, una vez más, que el muro de restricciones sobre China en este ámbito está provocando el efecto contrario: la estimulación del desarrollo tecnológico.
En este sentido, otra de las claves de la habilidad china para sortear las restricciones de EEUU a su desenvolvimiento técnico en el ámbito de los chips es su músculo a nivel de trabajadores cualificados. Según Liu Xu, investigadora de la Universidad de Tsinghua, China tiene una gran ventaja en trabajadores vinculados a las tecnologías de la información, tanto por número y talento como por el menor coste laboral para las empresas de IA.
Además, Michelle Guida, ex subsecretaria de Asuntos Públicos de EEUU, elevó la voz de alarma al señalar que, en 2020, en China se habían graduado el doble de ingenieros que en el país norteamericano. Para Guida, esto suponía un obstáculo en el camino de Washington para dominar la Inteligencia Artificial.
En este contexto, la cruzada de Trump contra las principales universidaddes de EEUU puede anular sus propios esfuerzos por batir a China en el ámbito de los chips, pilar fundamental de la pugna tecnológica y elemento clave en la guerra comercial entre ambas potencias.