Madrid
IE University es la universidad española con más empleabilidad de 2021, según el Global Employability University Ranking de Times Higher Education (THE) y Emerging, y la 19ª del mundo.
Este informe analiza la opinión de empleadores de todo el mundo sobre las demandas de las empresas y el perfil de los graduados que reclutan para sus organizaciones. Entre las principales conclusiones, los autores del informe destacan la importancia de la formación tecnológica para hacer frente a los retos de la transformación digital tras la pandemia, así como habilidades específicas de gestión.
Según el Global Employability University Ranking de Times Higher Education (THE) y Emerging, ocupan las tres primeras posiciones universidades de Estados Unidos: en el número 1 el Massachusetts Institute of Technology (MIT); el California Institute of Technology en segundo lugar; y Harvard University, tercera.
Con respecto a instituciones españolas, IE University es la que más alto está en el ranking, seguido de la Universidad de Navarra (puesto 41), la Universitat Autònoma de Barcelona (132), la Universidad Carlos III de Madrid (138), la Universidad Autónoma de Madrid (144), la Universidad Complutense de Madrid (186) y la Universitat Ramon Llull (230).
El ranking de Times Higher Education analiza seis indicadores identificados por las empresas como factores clave de la empleabilidad.
Entre ellos, figuran la excelencia académica de las instituciones; la utilización de la tecnología aplicada a la educación; el diseño de iniciativas conjuntas con las empresas como parte del plan de estudios; el desarrollo de habilidades y capacidades personales; el enfoque internacional del programa y del ecosistema de alumnos y profesores; y la formación en áreas técnicas, de negocio y de investigación.
Este ranking refuerza asimismo la posición de España y Madrid como 'hub' mundial de educación, y consolida los resultados obtenidos en 2020, que situaban a IE University en la posición 24ª del mundo en formación online y la 19ª en emprendimiento digital.