La multinacional japonesa de la electrónica y el entretenimiento invertirá 100.000 millones de yenes (918 millones de euros) para doblar su capacidad de producción de sensores de imagen, mediante la adquisición de nuevas instalaciones de fabricación y la ampliación de sus líneas de producción, según anunció la compañía en un comunicado.
En concreto, Sony invertirá esta cantidad en su centro tecnológico de Nagasaki en el año fiscal que concluye el 31 de marzo de 2012, con el objetivo incrementar la producción de sensores de imágenes CMOS (semiconductores de óxido-metal complementarios) y CCD desde las 25.000 unidades mensuales actuales hasta las 50.000 unidades mensuales en marzo de 2012.
El plan incluye la transferencia de las instalaciones de fabricación de semiconductores de Toshiba, tal y como recoge el memorándum de entendimiento no vinculante anunciado por ambas empresas el pasado 24 de diciembre, así como la renovación de una parte de sus instalaciones para fabricar semiconductores y adaptarlos a la creación de los sensores de imagen CMOS.
