Toshiba Memory Corporation, líder mundial en soluciones de memoria, ha celebrado hoy una ceremonia de inicio de las obras de su primer centro de fabricación (fab) de semiconductores llamado K1, en Kitakami (prefectura de Iwate), en el noreste de Japón. Una vez que se termine su construcción en el otoño de 2019, este centro será uno de los procesos de fabricación más avanzados del mundo, dedicado a la producción de memorias flash 3D.
Toshiba Memory continúa avanzando en el desarrollo de tecnologías en memoria flash.
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