Toshiba Corporation (TOKYO:6502) ha desarrollado un nuevo modelo compacto para diseño de circuitos que logra una mayor densidad de pasarela y que mejora el rendimiento en relación con el coste en la tecnología CMOS de 45nm de próxima generación.
Al aplicar esta técnica, la densidad de pasarela de la tecnología CMOS de 45nm es 2,6 veces mayor que la de la tecnología CMOS de 65nm.
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- Business Wire