Oerlikon Systems ha anunciado recientemente que el Departamento de Tecnología y Ciencia a Nanoescala de la Universidad de Cornell (CNF) en Ithaca, Nueva York, ha adquirido un sistema de grabación en seco en silicio, VERSALINE?.
El sistema VERSALINE? ofrecerá una nueva capacidad de procesamiento para la fabricación de dispositivos MEMS y permitirá, además, una amplia gama de proyectos de tecnología y ciencia a nanoescala. El sistema incorpora la última tecnología Deep Silicon Etch (DSE®) de Oerlikon que proporciona la precisión de grabación y la latitud necesaria para crear la próxima generación de dispositivos en nanoescala y MEMS.
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- Business Wire
